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超純水設備在芯片的制造和應用過程中發(fā)揮了哪些作用?

時間:2023-12-20

  引言:隨著科技的飛速發(fā)展,芯片已經成為當代社會不可或缺的一部分。芯片制造技術也在這一背景下不斷進步,其應用領域也在不斷擴大。從最初的計算和存儲設備,到現(xiàn)在幾乎所有類型的電子設備,芯片都發(fā)揮著核心的作用,因此對于芯片生產過程人們也越發(fā)重視。

  在芯片生產過程中,超純水設備起著至關重要的作用。該設備產出的超純水是一種雜質含量極低的水,其電阻率可達到18兆歐姆·厘米(MΩ·cm)以上,主要作用是為芯片制造提供所需的高品質清洗用水,用于保證芯片制造過程中的清潔度。那么這樣的超純水設備在應用過程中發(fā)揮了哪些作用呢?

  在芯片制造過程中,超純水設備主要起到以下幾個作用:

  1.清洗工藝中:超純水設備產出的超純水純度可以用于去除硅片表面的雜質和微粒,保證芯片的純凈度。

  2.蝕刻工藝中:在芯片制造中的蝕刻環(huán)節(jié),超純水可以控制化學反應的速度和均勻性,從而保證蝕刻的質量和精度。

  3.冷卻工藝中:超純水設備產出的超純水可以起到良好的冷卻作用,防止芯片因為過熱而受到損傷。

超純水設備

  目前在芯片制作中應用的超純水設備多是采用反滲透結合EDI裝置相結合的工藝,這樣的超純水設備還具有抗污染能力強、節(jié)能環(huán)保、產水水質穩(wěn)定、脫鹽率高、系統(tǒng)內無死水等優(yōu)點,出水水質符合且高于中國國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。

  我們還在應用中發(fā)現(xiàn)該超純水設備應用的EDI裝置不會產生酸堿廢液,因此不需要酸堿中和處理。EDI進水為二級反滲透產水,水質較好。即使經EDI系統(tǒng)脫鹽后,EDI濃水水質仍優(yōu)于一級反滲透產水,可回流至一級反滲透產水箱。可連續(xù)工作,無須更換樹脂。具有自動化程度高,無須人工操作等優(yōu)勢。

  此外,超純水設備的應用對于提高芯片制造的環(huán)保性也有著積極作用。在應用過程中不會對環(huán)境產生污染,完全符合當前社會對于工業(yè)生產綠色、環(huán)保的發(fā)展要求。

  結論:綜上所述,芯片的發(fā)展迅速并廣泛應用于各個領域。在其制造過程中,超純水設備有助于提高芯片制造的環(huán)保性。因此,超純水設備在芯片制造中扮演著不可或缺的角色,對于推動芯片制造業(yè)的發(fā)展具有重要意義。

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  編輯:柒柒   技術:加菲

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