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淺析硅晶圓生產為何需要應用超純水設備?

時間:2024-07-01

  前言:熟悉半導體領域的人都會了解硅晶圓,硅晶圓是半導體的核心,也是成本占比最高的材料,對純度也有超高要求,是一種為了制成半導體積體電路的原材料。本文淺析一下硅晶圓生產為何需要應用超純水設備。

  硅晶圓作為半導體的核心部件,其在制造過程中需要應用超純水設備的原因有以下幾點:

  1.對于清潔度的要求。硅晶圓制造過程中對水質清潔度要求非常高。普通水中的雜質和離子可能會影響到硅晶圓的品質和性能,因此需要使用超純水來清洗和加工硅晶圓。

  2.制作中需要使用表面活性劑來清洗硅晶圓表面的污垢和油脂。這些表面活性劑對水的純凈度要求非常高,應用高度純凈的超純水,使表面活性劑能夠充分發揮作用,有效清洗硅晶圓表面的污垢和油脂。

  3.生產效率在硅晶圓制造過程中,使用超純水設備可以顯著提高生產效率。高度純凈的超純水可以快速蒸發,使硅晶圓更快地干燥和冷卻,從而縮短生產周期和提高生產效率。

  簡而言之,就是為了提高硅晶圓質量需要使用超純水設備。我國雖然半導體材料產業起步較晚,但是發展比較迅猛。那么什么樣的超純水設備才能產出高質量的超純水呢?

超純水設備

  目前常見的超純水設備核心工藝為“預處理+反滲透+EDI+拋光混床”的組合形式。該超純水設備具有高效低能、運行成本低,水資源利用率高、體積較小、維修量小,運行時間長等優點。這樣的超純水設備在運行時是不需要添加任何化學品的,不僅減少了化學品運輸問題,同時降低了系統運行費用。并且設備不會有酸堿廢液產生,所以不需要酸堿中和池,一般情況下產出的濃水完全可以回收再利用,并且采用的設計結構相對靠緊,所以其占地非常小,可以為企業節省很多空間。

  超純水設備可以更好的,連續的,穩定地制備高品質的超純水,完全符合硅晶圓生產用水水質標準。隨著我國科技半導體產業的不斷發展與壯大,對于硅晶圓的產出質量要求也會越來越高,所以對于使用超純水設備要求也會提高,這也將帶動相關產業的發展。

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  編輯:新奇   技術:加菲

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